发布时间: 2015-08-07 浏览次数: 作者:迈昂科技
屏幕显示行业越来越火,随之对镀膜工艺的要求也越来越高,膜厚测试的需求也变得越来越多。膜厚测试有很多种方法,今天我给大家介绍无损检测的两种光学测试方法:薄膜反射干涉法和椭偏光谱法。
一、薄膜反射干涉测量膜厚
测量原理:入射光经薄膜上表面反射后得到第一束光,折射光经薄膜下表面反射又经上表面折射后得到第二束光,这两束光在薄膜的同侧,由同一入射振动分出,是相干光,当两束光相遇时会产生干涉。
根据公式:
Δ=2ntcos(θt)±λ/2
式中n为薄膜的折射率,t为入射点的薄膜厚度,θt为薄膜内的折射角,±λ/2 是由于两束相干光在性质不同的两个界面(一个是光疏-光密界面,另一是光密-光疏界面)上反射而引起的附加光程差。
系统配置:光谱仪、光源、反射探头、支架、标定硅片
优点:适用于大部分已知n、k系数的介质的透明、半透明材料,且成本相对低。(需要知道测试样品的n、k值,才能测得膜厚)
干涉法软件界面-海洋光学
二、椭偏光谱法测量膜厚
测量原理:光源经过起偏器和滤镜后得到已知入射光的偏振态,偏振光在样品表面被反射,测量得到反射光偏振态(幅度和相位),可计算出材料的光学属性,包括膜厚、透过率、消光系数等。
椭偏仪测量的公式比较复杂,不在这里展开。需要了解的请直接联系我们。
系统配置:光源、起偏器、滤片、检偏器、光谱仪。
优点:测量精度高,可以测量超薄膜的膜厚,可以测得多层介质的n、k系数。
椭偏法软件界面-海洋光学
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